Browsing by Author "吳俊緯"
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Item RuO2/Graphene/Polyaniline 複合材料之超級電容開發(2016) 程科翔; Cheng, Ke-Siang本研究使用靜電紡絲(Electrospinning)與靜電噴霧(Electrospray)技術,製備奈米纖維,藉由熱處理製備碳奈米纖維,做為超級電容之電極。首先,本研究以聚苯乙烯(Polystyrene, PS)與聚苯胺(Polyaniline, PANi)作為複合溶液,製備出線徑約534 nm的PS:PANi奈米纖維。接著利用靜電噴霧技術,將石墨烯(Graphene)溶液沉積至PS:PANi纖維表面,製備出堆疊式PS:PANi:graphene奈米纖維,石墨烯片約為5 m能附著在PS:PANi奈米纖維薄膜,且不會造成底部PS:PANi奈米纖維形貌的變化;本研究也成功以靜電紡絲技術,將聚苯乙烯、聚苯胺以及石墨烯作為複合溶液,製備出線徑約418 nm的複合式PS:PANi:graphene奈米纖維;本研究利用靜電紡絲技術,將聚丙烯腈(Polyacrylonitrile, PAN)與聚苯胺作為複合溶液,藉由熱處理製備出線徑約690 nm的PAN:PANi碳奈米纖維。接著將聚丙烯腈、聚苯胺以及石墨烯作為複合溶液,藉由熱處理製備出線徑約400 nm的PAN:PANi:G碳奈米纖維;此外,製備PAN:PANi與PAN:PANi:G碳奈米纖維薄膜之導電率,分別為28.5 mS/cm與98.1 mS/cm,碳奈米纖維具有導電性。透過拉曼光譜分析石墨烯材料的D band、G band與2D band峰值,表示利用本研究的電紡絲技術已具備將石墨烯複合於碳奈米纖維之能力。最後,將封裝完成之超級電容元件進行循環伏安法量測,其中PS:PANi奈米纖維、堆疊式PS:PANi:graphene奈米纖維、複合式PS:PANi:graphene奈米纖維、PAN:PANi碳奈米纖維與PAN:PANi:G碳奈米纖維五種電極之比電容值,分別為0.032 F/g、0.025 F/g、0.023 F/g、151 F/g、61 F/g。實驗結果顯示,PAN:PANi碳奈米纖維相較於PS:PANi奈米纖維電極之比電容高出4700倍。由於聚丙烯腈、聚苯胺與石墨烯經由熱處理之碳奈米纖維,具有良好的導電性與高比表面積,可提升整體電容器之特性。Item 一種模組化壓床設備(2010-10-01) 楊啟榮; 范志文; 黃孟書; 吳俊緯一種運用於微機電作業的模組化壓床設備,包含:一加工模組,具有一容置體、一加工基座與,一受壓連動裝置,其中該容置體更具有一通氣孔,透過該通氣孔將該容置體內之氣體排出,使該容置體內呈真空狀,而該加工基座設置於該容置體內,該受壓連動裝置設置於該容置體內而與該加工基座面對面,且伸出該容置體外;以及一壓床本體,具有一加壓裝置以及一結合部,其中該結合部用以容置該加工模組,該加工模組與該結合部相結合並可分離,該加壓裝置施壓於該受壓連動裝置。Item 一種陽極接合供電方法(2006-01-01) 楊啟榮; 張淑芳; 吳俊緯; 李致輝Item 一種陽極接合方法與設備(2009-04-01) 楊啟榮; 吳俊緯一種陽極接合方法,包含下列步驟:(1)提供一矽基板;(2)提供一玻璃板,置放該矽基板上;以及(3)提供一上電極與一下電極,其中該上電極以一預設距離懸空於該玻璃板上,藉電弧為該玻璃板供應電流。Item 寡層石墨烯剝離之環保製程技術開發(2016) 羅詩涵; Lo, Shih-Han本研究提出一新穎環保之方法,利用剝離原始石墨即可獲得石墨烯,其中剝離方法包含熱震剝離與超音波震盪剝離兩種方法:熱震剝離方法具備快速升溫降溫的特性,適合應用於增加石墨層與層之間間距的效果;接下來藉由超音波震盪方法,再次增加石墨層與層之間距,並脫離凡德瓦力鍵,即獲得石墨烯。為與實驗結果進行比較,首先分別以拉曼光譜儀、場發射掃描式電子顯微鏡以及場發射穿透式電子顯微鏡檢測原始石墨之特性,其ID/IG比值為0.1845,層數則為100層以上。熱震剝離方法後,即可測得層數已降為20層以下,ID/IG比值為0.1926,證實熱震剝離方法並沒有造成石墨之結構損傷。再進行超音波震盪方法後,以離心篩選溶液,分別檢測8500 rpm樣品、3000 rpm樣品以及沉澱物樣品,ID/IG比值分別為0.2605、0.1753與0.3936,推測可能為進行超音波震盪方法時,使用含界面活性劑去離子水溶液,以避免機械剝離後所得之具疏水性石墨烯再次聚集,然而未完全清除界面活性劑,使ID/IG比值稍微提升。而由原子力顯微鏡檢測,三種樣品皆可得7層以下之寡層石墨烯,證實剝離方法確實具有將原始石墨剝離,並獲得寡層石墨烯之成效。Item 新型高深寬比奈米柱狀陣列製作技術(2006-11-24) 程金保; 楊啟榮; 湯杜翔; 曾柏翔; 吳俊緯Item 新型高深寬比奈米柱狀陣列製作技術(2006-11-24) 程金保; 楊啟榮; 湯杜翔; 曾柏翔; 吳俊緯Item 玻璃深蝕刻技術開發與被動式微混合器之製作(2006-11-24) 程金保; 楊啟榮; 鍾武雄; 吳俊緯; 張明宗; 謝佑聖Item 玻璃深蝕刻技術開發與被動式微混合器之製作(2006-11-24) 程金保; 楊啟榮; 鍾武雄; 吳俊緯; 張明宗; 謝佑聖Item 石墨烯應用於染料敏化太陽能電池之研製(2016) 賴禹承; Lai, Yu-Cheng本研究主要分為兩個目的,第一個主要是利用常壓化學氣相沉積法(Atmospheric pressure chemical vapor deposition, APCVD)在大面積銅箔(20 cm * 30 cm)成長出品質均勻之石墨烯。透過拉曼光譜分析已證實可成長出I2D/IG比值為2~4左右之單層石墨烯(Single-layer graphene, SLG)。若將製程優化,期望能應用在染料敏化太陽能電池(Dye-sensitized solar cell, DSSC)的電極。第二個目的是透過化鍍技術,在機械剝離法所製備高品質石墨烯表面複合鉑(Pt)及鉑釕合金(PtRu)奈米顆粒,並用來作為DSSC之對電極材料。藉由Pt及PtRu奈米顆粒之高比表面積(High specific surface area),以及石墨烯與Pt之電極催化特性,以提升整體DSSC之轉換效率。化鍍製程是先將Pt之前驅物六氯鉑酸氫、釕前驅物氯化釕與石墨烯,加入還原劑乙二醇、緩衝溶液乙酸-氫氧化鈉,分別製作出石墨烯/Pt及石墨烯/PtRu複合材料,並將複合材料滴佈於導電玻璃基板上形成對電極。本研究所製備出之複合材料透過SEM、EDS及TEM量測,證實已成功將Pt及PtRu均勻複合於石墨烯表面,從結果得知石墨烯/Pt粒徑分布為1.5 nm~5.0 nm,平均在3.5 nm~4.0 nm占最多,其平均電阻值為2.73 Ω;而石墨烯/PtRu粒徑則是分布在2~4 nm,平均在2.5 nm占最多,其平均電阻值為6.44 Ω。經封裝組合成DSSC元件後,比較濺鍍法製備Pt膜、單純石墨烯膜、石墨烯/Pt及石墨烯/PtRu四種電極的轉換效率,分別為1.52 %、0.64 %、2.08 %、1.35 %。實驗結果顯示,石墨烯結合Pt後因為電性及催化特性較好,因此具有較高轉換效率,而在石墨烯/PtRu的部分也接近使用濺鍍法製備Pt膜所得到之轉換效率,透過簡易化鍍方法來製備複合材料,可減少製程所需成本,以及提升整體DSSC之轉換效率。Item 複合量子點合成之玻璃微反應晶片開發(2006-11-30) 楊啟榮; 程金保; 鍾武雄; 吳俊緯; 彭榆鈞; 謝佑聖Item 複合量子點合成之玻璃微反應晶片開發(2006-11-30) 楊啟榮; 程金保; 鍾武雄; 吳俊緯; 彭榆鈞; 謝佑聖Item 陽極接合轉印石墨烯之技術開發(2016) 靳皓文; Chin, Hau-Wen自從發現石墨烯這種新穎且極具發展潛力的二維材料後,其相關的製備方法與應用端也逐漸地被開發出來,而因為其具有優異的電子特性、可撓性與高光穿透度等優點,故在透明導電薄膜與光電元件的開發與應用上十分值得期待。而在目前眾多石墨烯的製備方法中,以化學氣相沉積法於金屬觸媒材料上成長石墨烯薄膜,並轉移至其他目標基板上之方式,較能達到大面積、高導電性與高光穿透度等應用要求。因此,本研究試圖將化學氣相沉積法於銅箔基板與濺鍍銅薄膜於二氧化矽/矽基板所成長的石墨烯,以陽極接合轉印技術,將其轉移至Pyrex7740之玻璃目標基板上,在整個陽極接合轉印製程中不用像傳統轉移技術,必須使用高分子聚合物(PMMA或PDMS)當作石墨烯的保護層與犧牲層,而在石墨烯轉移完成後該高分子聚合物則必須去除的問題,故此製程不僅沒有高分子殘留問題,在轉移過後也僅需使用到少量之銅蝕刻液,即可蝕刻掉於玻璃目標基板表面上所殘留之銅原子。 本研究重點主要分為三大項目: (1) 以化學氣相沉積系統成長石墨烯於銅箔與二氧化矽/矽基板表面之銅薄膜上,並以調控甲烷碳源與氬氫(Ar/H2)混合氣(9:1)之輔助氣體間的比例,來控制石墨烯層數與品質之成長參數。經由拉曼光譜分析證實已可成長出I2D/IG比值為2.04 ~ 2.98,半高寬為38.47 cm-1 ~ 46.42 cm-1之單層石墨烯(Single-layer graphene, SLG),以及I2D/IG比值為0.51 ~ 0.66,FWHM為64.16 cm-1 ~ 73.57 cm-1之寡層石墨烯(Few-layer graphene, FLG);(2) 由於在透明導電薄膜等應用上,FLG較能達到其元件應用之需求,故在實驗上則採用FLG來當作轉移之試片。並以開發的陽極接合轉印技術,將成長好的FLG從銅觸媒材料上轉移至面積尺寸為1 × 1 cm2之Pyrex玻璃目標基板,並透過調控其製程溫度以及工作電壓來達到轉移石墨烯之目的。經實驗結果顯示,於銅箔上成長的FLG,在製程溫度為150 ℃,工作電壓為0.9 kV為本實驗之最佳條件,其可在不需使用銅蝕刻液的情況下成功地轉移石墨烯,並在10 × 10 m2之範圍內,經拉曼映射及影像二值化分析軟體進行分析後,可得到其轉移率約為64.7%。而在以濺鍍而成之銅薄膜上,所成長出來的FLG,則是在工作電壓為0.6 kV,溫度為300 ℃之製程溫度下為最佳條件,在此條件可成功地轉移銅薄膜/石墨烯於Pyrex玻璃目標基板上,並且搭配0.1 M少量之銅蝕刻液去除表層的銅薄膜後,在10 × 10 um2之範圍內,以拉曼映射與影像二值化分析軟體進行分析,可得到其轉移率約為89.6%;(3) 本研究除了開發陽極接合轉印技術外,為了提升本技術之應用性,除了實驗之石墨烯轉移外,還利用濺鍍於二氧化矽/矽之銅薄膜與半導體製程進行整合,利用黃光微影、物理氣相沉積濺鍍與掀離等製程,進行尺寸大小為80 × 80 um2之方形陣列結構的圖案化定義,並接續進行前述石墨烯成長與轉移之最佳參數,將可實現快速且低成本之批量生產與產業應用。Item 電弧放電應用於陽極接合速度與品質之研究(2007) 吳俊緯; Jim-Wei, Wu陽極接合技術常被應用於微機電元件的組裝,是目前微機電製程中相當倚重的一種接合技術。主要藉由離子鍵結的方式來達到接合的目的;故兩接合表面平整度要求非常高,屬於無介質的接合方式。而接合過程中電極的幾何形狀可造成不同的接合效果,原因是當通入直流電壓時,首先發生接合現象是在上電極與玻璃接觸的下方。若選用大面積的上電極;使電極完全的與玻璃晶片接觸,平均電場的分佈可使電極下方同時發生接合。因而可改善接合的速度,但接合的品質並沒有單點電極來的好,原因在大面積的電極在接合時,會在介面上產生氣孔。對於單點式電極,其接合區域是慢慢擴張出去,因此接合面的殘存氣體也會被驅趕出去,不易形成氣泡,接合品質相當好,但接合速度相當緩慢。 本研究提出一種新式的電弧放電接合方式,並搭配特殊電極幾何形狀的排列方式,來改善陽極接合的速度及氣泡問題。實驗結果證實,利用輻射狀線電極在定電壓900 V、溫度400 ℃及放電間隙120 um條件下,進行4吋晶片接合時,接合時間約為17秒,且接合良率可至99.98 %左右。Item 電弧放電應用於陽極接合速度與品質之研究(2007-11-23) 楊啟榮; 吳俊緯; 張龍吟; 古耀方; 柳文吾陽極接合技術常被應用於微機電元件的組裝,是目前微機電製程中相當倚重的一種接合技術,由於陽極接合是利用高溫提供能量,將玻璃中金屬離子(Na+)解離,但高溫會產生熱應力的問題,也會影響晶片上的各種微小結構。所以如何找出可降低溫度或加快接合的時間,使熱的影響降至最小,是研究所追求的目標。以加快接合時間來說,電極的幾何形狀可造成不同的接合效果,原因是當通入直流電壓時,首先發生接合現象是在上電極與玻璃接觸的下方。過去曾有人使用針狀式螺旋電極排列的方式配置,雖可有效的改善接合所需的時間,但降低接合所需的時間有限,無法真正達到真正的快速接合。因此本研究提出一種新式的電弧放電接合方式,並搭配特殊電極幾何形狀的排列方式,來改善陽極接合的速度及氣泡問題。實驗結果證實,利用輻射狀線電極在定電壓900V、溫度400度C及放電間隙 120.mu.m條件下,進行4吋晶片接合時,接合時間約為17秒,且接合良率可至99.95%左右。Item 電腦麻將程式MahJongDaXia的設計與實作(2016) 吳俊緯; Wu, Chun-Wei電腦麻將程式MahJongDaXia的設計與實作 吳俊緯 在人工智慧的電腦對局領域中,麻將是一個相當特別的項目,由於多玩家、不完全資訊及機率性三個要素使得其他項目的搜尋演算法在麻將中變得難以實現,也因為其困難與價值,使得國內外有許多優秀的人才投入這個領域。 在本論文所研發的程式MahJongDaXia,用純規則導向的架構與純機率性的審局方式達到所期望「正確的捨牌」。在文中將探討過去各電腦麻將程式的架構及應用技術,並詳述MahJongDaXia的程式結構,所採用的7個規則來做為決策函式的核心,說明這些規則對於特殊牌型的處理,關於開發過程對於使用的結構的改進原因及優劣。MahJongDaXia為一個從無到有的電腦麻將程式,開發實踐尚短,也在TAAI 2015、TCGA 2016與ICGA2016競爭中取得銀牌,未來會以程式完善為目標改進。Item 非典型僱傭議題之網路新聞媒體報導框架分析(2019) 吳俊緯; Wu, Chun-Wei非典型僱傭勞動型態日益興盛,勞動議題亦受到大眾矚目。隨著網路時代來臨,網路成為受眾接收新聞的主要管道。因媒體會「框架」新聞並影響受眾對議題的認知,故本研究以框架分析來審視台灣網路新聞媒體建構台灣非典型僱傭議題真實之框架。本研究選擇主流/大眾媒體之《ETtoday東森新聞雲》78則、《自由時報電子報》237則、《聯合新聞網》300則之報導,與非主流/獨立媒體之《苦勞網》10則、《風傳媒》53則、《民報》23則共701則新聞報導進行分析,參考Tankard框架清單分析取徑,以內容分析法分析兩類網路新聞媒體報導框架之呈現與其異同。 研究發現:兩類媒體在新聞呈現、情感框架上具有顯著差異,但在歷時之報導量上沒有顯著差異。主流/大眾媒體重視報導量,並以中篇幅、純報導呈現議題,其多數報導中呈現圖表且較偏向勞方;非主流/獨立媒體重視深度、主觀評論之長篇幅報導,其報導中均呈現圖表且較偏向官方。兩類媒體之報導主要含有多個消息來源並側重官方權威話語,非主流/獨立媒體引用更多類的消息來源且更平衡地呈現勞、資、政、學等多方之話語。兩類媒體在子議題之呈現上均重視派遣相關子議題並呈現出社會真實,唯零工相關子議題在非直接相關主題之報導中較常被突顯。兩類媒體呈現之問題與解決策略為顯著之實質框架;兩類媒體皆呈現用人單位使用因素之歸因並關注勞權、低薪等問題,主流/大眾媒體略偏柔性解決,非主流/獨立媒體略偏硬性解決;非主流/獨立媒體在直接相關主題報導中呈現之實質框架較主流/大眾媒體為多且更加突顯某些特定的面向。兩類媒體多為中立報導,但非主流/獨立媒體較有主觀評述,並以勞方立場、質疑政府施政作為其意識形態。總體來看,媒體仍會以特定字詞框架非典型僱傭議題與非典型僱傭勞工之形象,然媒體亦有確實地扮演好議題之監督者角色並重視議題的問題與解決。本研究之發現可供台灣網路新聞媒體審視其報導非典型僱傭議題之平衡性,以利未來產製更為詳實且客觀之報導。