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    富含三萜類之山苦瓜葉萃取物對於四氯化碳誘導小鼠肝臟纖維化之保護效應
    (2018) 林于庭; Lin, Yu-Ting
    肝臟纖維化是由於慢性肝損傷造成大量的基質蛋白堆積在肝臟組織，為肝臟疾病最後一個可逆的階段，肝纖維化可能導致肝硬化或肝癌。山苦瓜具有多種藥理活性，其活性成分有酚類、黃酮類和三萜類等化合物。但山苦瓜三萜類化合物對於緩解肝纖維化的功效未明，因此本研究探討富含三萜類化合物之山苦瓜葉萃取物對於四氯化碳 (CCl4) 誘導肝纖維化的保護能力。 取得台灣山苦瓜 (花蓮一號) 並製備山苦瓜葉乙醇萃物 (bitter melon leaf extract, BMLE) 和富含三萜類之區分物 (triterpenoid-enriched extract, TEE)，以 LC/MS 鑑定 TEE 含有 Kuguacin R、Charantadiol A 以及3β, 7β, 25-trihydroxycucurbita-5, 23-dien-19-al (TCD) 葫蘆烷型三萜類化合物。給予 ICR 小鼠40% CCl4 (1 mL/kg) 和分別餵食 BMLE (100 mg/kg) 或 TEE (100 mg/kg) 八周，由肝臟組織切片結果發現 BMLE 與 TEE 均可減少肝臟細胞壞死、肝細胞氣球樣變性、發炎細胞聚集和膠原纖維蛋白沉積等現象。為進一步探討 TEE 的保護效應，給予 ICR 小鼠40% CCl4 (1 mL/kg) 和分別餵食 TEE (25、50、100、150 mg/kg) 與 silymarin (200 mg/kg) 作為對照組，為期九周，並於注射 CCl4 前一周預先給予 TEE 和 silymarin。 實驗結果顯示餵食 TEE (25、50、100、150 mg/kg) 均顯著降低 CCl4 誘導血清 AST、ALT 和肝脂堆積。肝臟組織染色結果觀察餵食 TEE (100、150 mg/kg) 組的肝臟門脈周邊橋連壞死 (periportal +/- bridging necrosis)、門脈發炎和纖維化的評分值顯著低於 CCl4 組，TEE (150 mg/kg) 組的肝小葉內變性和局部壞死的評分值顯著低於 CCl4 組，且隨著 TEE 劑量增加而抑制 α-SMA 的表現。整體 TEE (100、150 mg/kg) 組的組織學活性指數總評分顯著低於 CCl4組。從西方墨點法的結果觀察餵食 TEE (150 mg/kg) 顯著抑制肝臟纖維化蛋白質的 TGF-β1 和 α-SMA 表現。定量聚合酶連鎖反應的結果觀察餵食 TEE (25、50、100、150 mg/kg) 顯著抑制肝臟發炎的 TLR4 基因表現，TEE (25、50、150 mg/kg) 顯著抑制肝臟纖維化的 TIMP-1 基因表現。此外隨著 TEE 劑量增加而有逐漸減少發炎型 Ly6Chi 單核球聚集的趨勢，具抗發炎潛力。 綜合言之，TEE 具有緩解 CCl4 誘導小鼠肝纖維化之功效、減少肝臟發炎壞死，且隨著 TEE 劑量增加而有提升保護效應的趨勢，顯示富含三萜類化合物之山苦瓜葉萃取物具有抑制肝纖維化的潛力，是值得繼續研究開發的護肝素材。
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    氧化鈥鋅薄膜的磁光與電性
    (2020) 林于庭; Lin, Yu-Ting
    本論文探討脈衝雷射蒸鍍法在c方向藍寶石基板上所製備之氧化鈥鋅薄膜(Ho: ZnO)的結構、光學、磁和磁光，及導電特性。氧化鈥鋅薄膜的製備條件為氧壓3×10-1 mbar，基板溫度525 ℃，雷射波長266 nm，雷射能量密度2.0 J/cm2，鈥的摻雜比例0~10 原子莫爾濃度(at. %)。 X光繞射光譜和拉曼散射光譜顯示氧化鈥鋅薄膜沒有其他雜質或晶相存在，代表薄膜中鈥原子成功取代了鋅原子。隨摻雜比例增加後，晶格常數與晶粒大小會變小，表示鈥原子(0.904 Å)取代鋅原子(0.74 Å)過程中產生缺陷造成薄膜結構變差。摻雜5及8 at. %之氧化鈥鋅薄膜的拉曼散射光譜還包含Ho 4f軌域5S2→5I8及5F4→5I8能階的螢光訊號。光致螢光光譜顯示純氧化鋅(Ho: 0 at. %)有很強的近能隙發光，隨摻雜比例增加，近能隙的發光變弱，缺陷的發光變強，從光致螢光光譜可以辨認出氧空缺、鋅空缺、鋅間隙等缺陷。 SQUID的結果顯示在T = 5與300 K氧化鈥鋅都呈現順磁性，飽和磁矩隨摻雜比例增加而變大，在8 at. %達最大值120 emu/cm3。磁矩和溫度關係結果表明，薄膜磁矩在2~100 K的範圍內都快速下降，在150 K後趨於平緩，且在40~60 K的地方有很強的氧退吸附訊號，若扣除掉氧退吸附的訊號，推測所有薄膜皆不具磁有序特性。磁光光譜顯示所有氧化鈥鋅薄膜皆為順磁性，其法拉第旋轉角對磁場的斜率隨波長越大而變小，此外氧化鈥鋅薄膜的Verdet常數數值隨波長增長變小，大約降低86 %。 從電流-電壓特性曲線可以看到所有氧化鈥鋅薄膜電極皆符合歐姆定律。且在摻雜之後電阻率從0.022 Ω-cm上升到0.221 Ω-cm，表示摻雜和產生的缺陷會增加電阻率。