Repository logo
Communities & Collections
All of DSpace
  • English
  • العربية
  • বাংলা
  • Català
  • Čeština
  • Deutsch
  • Ελληνικά
  • Español
  • Suomi
  • Français
  • Gàidhlig
  • हिंदी
  • Magyar
  • Italiano
  • Қазақ
  • Latviešu
  • Nederlands
  • Polski
  • Português
  • Português do Brasil
  • Srpski (lat)
  • Српски
  • Svenska
  • Türkçe
  • Yкраї́нська
  • Tiếng Việt
Log In
New user? Click here to register.Have you forgotten your password?
  1. Home
  2. Browse by Author

Browsing by Author "許敬玄"

Filter results by typing the first few letters
Now showing 1 - 1 of 1
  • Results Per Page
  • Sort Options
  • No Thumbnail Available
    Item
    氧化鋅奈米線陣列披覆PVDF製作可撓性壓電元件之輸出電壓特性研究
    (2015) 許敬玄; Shiu, Jing-Shiuan
    本研究先利用濺鍍機在可撓式銅基板上沉積一層氧化鋅種子層,再將沉積種子層過後的銅基板經過水熱法長出一維結構之氧化鋅奈米線,透過不同氧化鋅種子層的粗糙度改變氧化鋅奈米線之線徑與線長:氧化鋅種子層粗糙度低,奈米線長且細,但容易造成奈米線叢聚現象;氧化鋅種子層粗糙度高製備出奈米線線徑粗,因線徑粗使奈米線叢聚現象降低。因製備完成氧化鋅奈米線後,需將PVDF薄膜旋塗於氧化鋅奈米線上,若奈米線有叢聚現象,PVDF溶液較不易均勻沉浸於奈米線中。接下來探討PVDF在何種結晶的環境下和厚度,能有效的提高PVDF的壓電輸出特性,一般PVDF的熔點溫度在160℃。研究成果指出,PVDF薄膜在300 rpm的轉速有最大的壓電輸出,且在烘烤時間50分鐘也能有效的使壓電輸出達到最佳化。 雖然氧化鋅奈米線本身也是壓電材料,但其壓電輸出特性卻非常小;而在PVDF薄膜上,雖材料本身耐強度與高壓電輸出特性,但其壓阻高所造成的靈敏性低之缺點,故在最後研究,將結合兩種材料以達到相輔相成的效用在,所以近一步探討PVDF薄膜在有無披覆氧化鋅奈米線時的壓電輸出特性的差異,結果顯示披覆氧化鋅奈米線時之壓電輸出特性增加、反應時間減少,都是因氧化鋅奈米線高體表面積的優點,使PVDF薄膜能突破本身低靈敏性的特性,能有潛力成為高敏性與高輸出之可撓式攜帶電子元件。

DSpace software copyright © 2002-2025 LYRASIS

  • Privacy policy
  • End User Agreement
  • Send Feedback