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    常壓電漿應用於多層玻璃之陽極接合技術開發
    (2012) 詹金龍; Chan, jin-long
    陽極接合技術主要是藉由電場與溫度的輔助下,形成共價鍵結而達到玻璃-矽晶圓、玻璃-玻璃基板接合之目的。由於陽極接合易於達到氣密性接合,並具有低溫、無介質、製程簡易等優勢,故已廣泛應用於微機電系統之封裝。在以往陽極接合技術中,多數研究僅只有兩層接合並應用於元件製作開發,而為了提升產品之性能及附加價值,勢必發展多層之接合技術。因此,本研究將配合常壓電漿基板表面處理技術,以進行多層玻璃(> 3 layers)陽極接合技術的研究。 根據研究結果顯示,本研究利用常壓電漿系統,使用壓縮空氣CDA作為主要製程氣體,於soda lime玻璃試片表面進行前處理,試片面積大小均為1 cm X 1 cm,唯陽極接合用之底層玻璃,其面積大小採用2 cm X 2 cm。在間距為5 mm與時間為30秒之處理條件下,使得試片表面接觸角<3 ∘,具有超親水特性(<10 ∘),其時效性可長達八小時。藉此特性能降低接合界面之氣隙排出阻力,在間距範圍5-25 mm與時間固定為30秒之常壓電漿處理條件,以及固定接合電壓為2.5 kV、溫度200 ℃及時間1分鐘之接合條件下,氣隙排出阻力小而能有較佳之接合品質與速度,接合率均落於26.49±3 %,相較於未處理之試片僅只有7.98 %,接合率之差距至少三倍以上。 選擇常壓電漿處理時間的原則,主要依親水鍵結接枝於試片表面之穩定程度,並於後續進行陽極接合製程,其接合條件為電壓2.5 kV、溫度200 ℃及時間1分鐘。在處理時間與接合率關係圖中,得知處理時間範圍在5-30秒為線性區,其斜率值約為0.65 %/sec,處理時間範圍在30-90秒為飽和區,其斜率值約為0.08 %/sec,接合率平均在27.53 %。在處理時間90秒時,可達到30.91 %之接合率。 在100 %的面積接合實驗中,經常壓電漿處理之試片,在固定接合電壓為2.5 kV與溫度200 ℃之接合條件下,氣隙排出阻力小而較不易產生牛頓環,能完整接合得到73.3 N之剪力破壞,比起未處理之試片需克服阻力問題,可能於微觀世界中存有氣隙,使接合屬於暫時性或並非完全接合,得到43.1 N之剪力破壞,故常壓電漿對於陽極接合具有一定之重要性。 利用接合電壓2.5 kV、接合溫度200 ℃以及時間為5分鐘之接合條件,分別完成常壓電漿處理與否之三層玻璃結構的陽極接合,未經常壓電漿處理之上下層接合界面可分別得到30.3 N與56.0 N之剪力破壞,而經由常壓電漿處理可分別得到37.8 N與87.4 N之剪力破壞,表示處理對於接合力提升之必要性,接合力又因層數而有所遞減,最大之接合力主要於下層界面,亦即最大電場發生之處。 最後,依研究所提出之多層玻璃接合的方法,改善以往僅受限於三層接合或需分次接合才能達到多層結構的缺點,利用接合電壓2.5 kV、接合溫度200 ℃以及時間為10分鐘之接合條件,可於單次迅速順利進行二至七層結構之玻璃接合。

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