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    鈷在矽(111)-7×7與鈷在(√3×√3)-Ag/Si(111)表面隨溫度變化之行為研究
    (2006) 郭長祐
    室溫下的鈷會與矽發生電子轉換的反應,而使得矽(111)-(7×7)的adatom從原本在掃描穿隧顯微鏡(STM)下的亮點轉而成為暗點,經由統計發現鈷所造成的電子態轉換集中在(7×7)重構中未堆疊錯誤半單位晶格的中間位置的adatom上。 我們利用可變溫的掃描穿隧顯微鏡(VT-STM),在不同的低溫下觀察鈷在矽表面的行為。經由實驗與統計,我們發現鈷在100K的溫度下不會與矽基底發生電子的轉換。再接下來的變溫實驗裡,我們成功的找出鈷在矽表面發生電子轉換的臨界溫度為126K ~ 130K之間。我們並推測,在較高溫度時鈷原子會有擴散的行為,擴散到(7×7)重構中未堆疊錯誤半單位晶格的中間位置並與adatom發生反應。 在鈷蒸鍍在(√3×√3)銀/矽(111)的系統裡,我們發現室溫下的鈷是單純且均勻的吸附在銀/矽的表面上,並沒有對銀/矽的表面產生任何的變化。我們將溫度升高至100、200、300、400及500℃後,再進行STM的觀察。觀察後發現,溫度升高至200℃之後,鈷的原子團開始發生聚集。隨著溫度的增加,鈷原子的聚集現象越明顯,而且有向√3島的邊緣聚集的趨勢,但我們仍然沒有發現鈷原子對於銀/矽的基底造成其它的影響。因此我們知道,單層的銀原子就可以有效的阻止鈷與矽產生電子的轉換。

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