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    氧化鉿鋯二極體與場效電晶體之記憶體應用
    (2017) 陳宣翰; Chen, Hsuan-Han
    具有鐵電效應的新鐵電材料-鉿基氧化物(Hafnium-based Oxides),這幾年除了研究討論度相當高之外,應用面也是相當的廣,例如其鐵電負電容特性,藉由突破次臨界擺幅的物理極限60mV/dec,降低了操作電壓VDD,間接降低了元件的耗能,達到低功耗的目的。又例如藉由鐵電特性,使電流-電壓曲線具有遲滯現象,使之可以應用在1T記憶體上面,也可以製作成MIM結構應用在1T-1C記憶體中,而且鉿基氧化物與矽基板相容性高,可以整合在現有的CMOS半導體製程上。本研究將針對於應用在鐵電記憶體上,使用Hf1-xZrxO2作為鐵電層,藉著不同物理厚度、不同摻雜比例,以及退火溫度等條件,探討分析其在記憶體應用方面的表現。 關鍵字:鉿基氧化物、負電容電晶體、次臨界擺幅、金屬-鐵電層-金屬結構、鐵電電晶體。

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