Browsing by Author "Chun Wen Wei"

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    石墨烯與氧化石墨烯的製備與鑑定
    (2011) 韋峻文; Chun Wen Wei
    第一部分： 我們利用X光光電子能譜與粉末X光繞射光譜觀察石墨材料在氧化製程中的變化，過錳酸鉀會破壞石墨結晶中的雙鍵而產生含氧的官能基，當使用超聲波震盪時，含氧官能基彼此會產生靜電斥力，而達到石墨結構層與層之間的分離。從XPS圖譜可以看出，碳的訊號會因為氧化造成導電度下降而往高能量飄移，氧化所造成的官能基變化也可以從碳的XPS圖譜得知。根據文獻，碳的訊號會由碳材料及3種鍵結在碳材料上的含氧官能基所貢獻，分別有不同的能量。而X光粉末繞射圖譜也可發現石墨(002)晶面的訊號會隨氧化時間而往低角度飄移。分析以上兩種光譜，我們可以知道碳材料的結構變化與氧化程度。 由上述實驗所得到的結果，我們結合氧化時間為6小時、超聲波震盪1小時的兩道製程條件製備氧化石墨烯。並利用原子力顯微鏡等儀器做鑑定，證明我們所設計的製程條件可以製備出低層數、分散均勻(在水中)的氧化石墨烯。 第二部分: 我們進一步以有機修飾或是還原劑還原的方式改變氧化石墨烯的特性，並以儀器做鑑定。從各種鑑定結果我們發現，石墨烯氧化物的特性會因為官能基改變或是還原後而有不同的性質。