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配位基對硒化鎘奈米粒子之光學性質研究
(2012) 林含芳
本論文主要藉由光譜之變化，剖析正烷基胺和正烷基硫醇與硒化鎘表面作用狀態。我們利用化學膠體法製備硒化鎘奈米粒子，紫外可見光光譜儀、螢光光譜儀、X光粉末繞射儀作光學性質及結晶性之鑑定。正烷基胺和正烷基硫醇為吸附物，去修飾硒化鎘表面。低濃度的正烷基胺能增強PL強度，而正烷基硫醇會導致PL強度焠滅。胺類使吸收和放射光譜都出現藍移，硫醇分子造成紅移發生。硒化鎘溶液加入正烷基胺有助於鈍化硒化鎘表面，它的頭端基能提供電子給金屬離子形成的懸空鍵，減少表面缺陷。正烷基硫醇與粒子作用，則會造成缺陷放光增加。對於配位基與奈米粒子作用情形，我們也建立Langmuir 模型求出吸附鍵結常數。以電子效應解釋其表面反應機制，正烷基胺有較強的供電子能力，使生成的反鍵結軌域提升至硒化鎘LUMO之上，消除了電子捕捉態。正烷基硫醇不傾向供給電子，無法消除捕捉態。