學位論文
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Item 利用原子力顯微術探討環境溫度與溼度對單層石墨烯表面吸附性質的影響(2025) 鄭名媛; Zheng, Ming-Yuan在本實驗中，我們探討了溫度和相對濕度對二氧化矽探針在單層石墨烯（Single Layer Graphene, SLG）表面吸附力的影響，並比較針尖為四面體形狀的探針與球型探針在吸附力量測中的穩定性。實驗中，我們利用變溫系統調整樣品與探針的溫度，並使用濕度控制系統調整相對濕度，確保環境參數穩定可控。並透過原子力顯微鏡（Atomic Force Microscopy, AFM）量測，我們觀察到四面體探針的吸附力數據波動顯著且無明確趨勢，而球型探針則呈現穩定且一致的吸附力結果，這是因為球型探針與樣品的接觸面較大所導致。此外，隨溫度從室溫上升至 100°C時，因毛細水橋中的水分子會隨著溫度升高而逐漸蒸發，導致吸附力逐漸減小；而當溫度超過 125°C 時，環境溫度已超過水的沸點，使水橋無法穩定存在，因此吸附力趨於穩定。再者，當相對濕度增加時，有利於水橋形成，使毛細力增強，導致吸附力顯著增大。我們的研究結果揭示了單層石墨烯與二氧化矽探針間的吸附力在不同溫度和濕度條件下的變化特性，這些結果未來可能可以應用於微機電系統（MEMS）和奈米機電系統（NEMS）的性能優化。Item 電漿蝕刻磁性薄膜的影響(2025) 汪敬修; Wang, Ching-Hsiu現代電子元件與資訊儲存技術的進步，人類社會對高密度、高穩定性功能性材料需求日益提升。其中，磁性薄膜材料的磁學特性與多功能可調控性，在高密度磁性儲存、自旋電子學（Spintronics）、磁阻式隨機存取記憶體（MRAM）。磁性薄膜的性能除取決於其內部層狀結構與元素組成外，與基板表面結構特性、粗糙度以及成膜過程中的介面品質有密切關聯。基板表面形貌與微觀結構對磁性薄膜之晶粒成長機制、磁疇結構形成以及磁各向異性等特性均產生深遠的影響。本實驗以射頻氬電漿（Argon Radio Frequency Plasma）乾式刻蝕技術為核心，針對磁性薄膜沉積常用之兩種絕緣基板材料:藍寶石（Al₂O₃）與二氧化矽（SiO₂）進行表面結構調控，系統性研究不同基板經氬電漿蝕刻後的表面形貌演變行為。實驗研究經氬電漿蝕刻鈷鈀多層膜Pd(3nm)/[Co(0.6nm)/Pd(0.8nm)]₅/Pd(4nm)/Al₂O₃磁性薄膜後的磁性特性所造成的影響。不同於傳統單一層或無蝕刻參數優化之研究，實驗研究使用原子力顯微鏡（Atomic Force Microscopy, AFM）與磁光柯爾效應（Magneto-Optical Kerr Effect, MOKE）兩種實驗量測方法，搭配不同區域的磁性掃描分析，分析氬電漿蝕刻對磁性薄膜微觀與宏觀磁學行為的深層影響。實驗過程中，採用RF射頻電漿刻蝕系統，用以交流射頻功率與氬電漿為蝕刻方式，分別對藍寶石與二氧化矽基板進行10分鐘與30分鐘的乾式氬電漿蝕刻處理。藍寶石作為高硬度單晶基板，具六方緊密堆積（Hexagonal Close-Packed，HCP）晶格結構，具有高莫氏硬度（Mohs 9）、高熱穩定性與良好光學性能，在高品質磁性薄膜生長中廣泛應用；二氧化矽具有化學穩定性高與介面光滑特性，常用於磁性多層結構與自旋元件製程中的隔離層或緩衝層。透過氬電漿物理性濺射作用，氬電漿實驗產生基板表面粗糙度、蝕刻深度與微觀表面形貌變化，藉以探討不同基板特性對電漿蝕刻行為之反應性差異。蝕刻後樣品經AFM進行奈米尺度三維表面形貌量測，並利用Ra（算術平均粗糙度）、Rq（均方根粗糙度）作為表面粗糙度之定量參數，分析不同蝕刻時間與基板材料對表面粗糙度與形貌特徵之影響。AFM量測結果顯示，隨蝕刻時間增加，兩種基板表面粗糙度均有明顯提升，但其表面反應機制存在顯著差異：藍寶石基板因其高結晶性與硬度，受氬離子蝕刻後表面僅形成輕微凹洞狀起伏，Ra與Rq值增加幅度較緩；二氧化矽基板由於密度與莫氏硬度比藍寶石基板較小，二氧化矽在氬電漿蝕刻後表面更容易蝕刻成微奈米凹洞，表面粗糙度提升幅度更為明顯。藍寶石基板上沉積鈷鈀多層膜結構（Pd(3nm)/[Co(0.6nm)/Pd(0.8nm)]₅/Pd(4nm)/Al₂O₃），經氬電漿功率100W，氬電漿蝕刻5分鐘後，實驗採用MOKE磁光柯爾顯微鏡進行不同區域磁滯曲線量測，探討氬電漿蝕刻後蝕刻去除鈷鈀多層膜對磁性特性之影響，特別關注矯頑力（Hc）、剩磁（Mr）、磁滯曲線特徵。實驗結果顯示，經氬電漿蝕刻（中央區域，100 W持續5分鐘以上）之基板表面，沉積後之磁性薄膜幾乎完全喪失鐵磁特徵，MOKE量測之磁滯曲線呈現線性趨勢，無剩磁且矯頑力趨近於零，表現出典型順磁行為。分析推測，可能因為氬離子的高能量物理撞擊作用已去除鈷鈀磁性層結構。觀察邊緣輕蝕刻區（蝕刻深度較淺），磁性薄膜保持明顯垂直磁各向異性，呈現方形磁滯曲線，剩磁接近未蝕刻區域水平，矯頑力雖略有下降，但仍維持可觀磁性翻轉特徵。特別值得注意的是，過渡區域之磁滯曲線則呈現典型混合特性，整體曲線於高磁場區域展現斜率變化，而於低磁場區域維持一段平台狀特徵，反映此區域內同時存在部分未被完全破壞之磁性層與蝕刻損耗之非磁性層，導致磁性特徵逐步過渡與轉變。深層蝕刻區表面具明顯蝕刻坑洞。實驗研究結果顯示，藉由氬電漿蝕刻處理，即可於單一樣品內部實現磁性梯度結構，具備從鐵磁性、高矯頑力區，到低矯頑力磁性區，甚至完全順磁性區域之漸變分佈，無需複雜多道製程或額外遮罩步驟，即可快速製備多功能磁性元件所需之微區磁性結構。綜合分析，實驗研究提供氬電漿蝕刻對磁性薄膜的磁學特性調變效果，藉由調控氬電漿、氬電漿蝕刻時間與基板選擇，可有效實現磁性薄膜從順磁到鐵磁，以及矯頑力與剩磁之連續可調特性，為未來發展高密度磁性儲存、自旋電子學與可重構磁性功能元件提供幫助。Item 氧缺陷對於氧化鋅薄膜奈米摩擦性質之影響(2016) 張桓僕; Chang, Huan-Pu本研究利用原子力顯微鏡的技術，來探討奈米尺度下，脈衝雷射沉積法所成長的氧化鋅薄膜其表面摩擦力對探針掃描速度的關係。我們發現氧缺陷的存在對於氧化鋅表面的摩擦性質扮演著重要角色。在低相對溼度的環境下，由於熱擾動造成的黏滑效應之影響，摩擦力與探針掃描速度呈正相關。然而，在高相對溼度的環境下，探針與氧化鋅表面的摩擦力在掃描速度小於2.7μm/s時與掃描速度呈現負相關，而在大於2.7μm/s時則呈正相關。這是由於氧缺陷可以吸附大氣中的水分子，因此在低速時，水分子有足夠的時間可以在探針與樣品粗糙表面間的空隙形成毛細水橋，使得摩擦力增大。但隨著速度增加，毛細水橋對摩擦力造成的效應將漸漸降低，使得摩擦力隨速度增加而減小。當毛細水橋不再有足夠時間形成時，摩擦力則再度與速度呈正相關。接著我們又利用光催化效應來操控氧化鋅表面的親疏水性。氧化鋅表面在被波長為365 nm的紫外光照射後將由疏水性轉變為親水性。此時所量得的摩擦力不僅大幅加，並且在不同濕度下，摩擦力對掃描速度皆呈現負相關。這是因為光催化反應可以大幅增加氧化鋅表面的氧缺陷，促進更多水分子的吸附，讓毛細水橋更容易在探針與氧化鋅間形成，進而影響了摩擦力對速度的關係。最後，利用光催化反應，氧化表面的溼潤性的轉變具有可逆性，因此我們可以利用此性質調控氧化表面摩擦力對速度的變化關係，這對未來利用氧化鋅為奈米元件材料的奈米機電系統將有應用的潛力。